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聚焦离子束(FIB)天津(委托/现场)

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聚焦离子束(FIB)天津(委托/现场)

  • 品 牌

    德国 Zeiss

    型 号

    Crossbeam 540

  • 模 式

    • 选 项

      • 地 址

        北京

      • 价 格

        4000

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  • 详细介绍
仪器简介

Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。

仪器参数

1.电子光学

加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。

2.聚焦离子束镜筒

离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x


检测项目

横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工

样品要求
结果示例

22.png

仪器简介

Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。

仪器参数

1.电子光学

加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。

2.聚焦离子束镜筒

离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x


测试项目

横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工

样品要求

非磁性样品,具体样品提前沟通

结果实例

22.png

FIB制样相关信息
  1. 问:FIB制作的样品在TEM中观察衬度比较暗可能导致的原因有哪些?

    答:可能是样品本身比较厚或者制样时表面存在非晶层, FIB加工时的能量很高,稍不注意就会在样品表面形成非晶区域。

  2. 问:为什么不做磁性样品?  

    答:因为仪器内部存在电磁场,FIB加工过程中产生的碎屑如果有磁性,可能会残留在设备内部,损害仪器。

  3. 问:为什么建议FIB制样和TEM建议选择同一家实验室? 

    答:FIB制样前需充分沟通TEM观察需求,严格按照需求去加工制样,存在表述不清非常容易引起实验不畅。

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项老师

13810666492

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