聚焦离子束(FIB)天津(委托/现场)
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品 牌
德国 Zeiss
型 号Crossbeam 540
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模 式
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选 项
- 地 址
北京
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价 格
4000
- 联系人:易科学客服
- 联系电话:400-086-3999 转 801
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- 详细介绍
仪器简介
Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。
仪器参数
1.电子光学
加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。
2.聚焦离子束镜筒
离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x
检测项目
横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工
样品要求
结果示例
仪器简介
Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。
仪器参数
1.电子光学
加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。
2.聚焦离子束镜筒
离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x
测试项目
横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工
样品要求
非磁性样品,具体样品提前沟通
结果实例
FIB制样相关信息
问:FIB制作的样品在TEM中观察衬度比较暗可能导致的原因有哪些?
答:可能是样品本身比较厚或者制样时表面存在非晶层, FIB加工时的能量很高,稍不注意就会在样品表面形成非晶区域。
问:为什么不做磁性样品?
答:因为仪器内部存在电磁场,FIB加工过程中产生的碎屑如果有磁性,可能会残留在设备内部,损害仪器。
问:为什么建议FIB制样和TEM建议选择同一家实验室?
答:FIB制样前需充分沟通TEM观察需求,严格按照需求去加工制样,存在表述不清非常容易引起实验不畅。
易科学优势
项老师
13810666492
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