新一代场发射扫描电镜JSM-7800F配备了新开发的超级混合式物镜(SHL)，在保持极高的可操作性的同时，实现了低加速电压下的高分辨率，电子源采用浸没式（in-lens）肖特基场发射电子枪，因而能以大束流电流进行稳定的分析。

通过超级混合式物镜(SHL)进行高分辨率观察

JSM-7800F的物镜采用的是静电场和静磁场叠加的超级混合式物镜(SHL)，由于减少了色差及球差，极大地提高了低加速电压下的分辨率。此外，SHL不会对样品形成磁场影响，因此观察磁性材料的样品和进行EBSD测试可以不受制约。

低加速电压下的能量选择

能量过滤器位于高位检测器 (UED)的正下方，可以选择能量。即使在低加速电压下，也能够精确地选择二次电子和背散射电子，因而可以通过低加速电压下的背散射电子像观察样品的浅表面。

通过Gentle Beam （即柔和光束GB模式）观察样品的浅表面

给样品加以偏压(GB)，对入射电子有减速、对释放出的电子有加速作用。即使入射电子束到达样品时的能量很低，也可以获得高分辨率、高信噪比的图像。如果利用能施加更高偏压的GB模式，用几十电子伏能量的入射电子束，就可以进行更高分辨率的观察。

通过多个检测器获取样品的所有信息

JSM-7800F配有四种检测器：高位检测器(UED) 、高位二次电子检测器(USD)、背散射电子检测器(BED)和低位检测器(LED)。UED过滤器的电压不同，二次电子和背散射电子的数量会改变，因此可以选择电子的能量，USD检测被过滤器弹回的低能量电子，BED通过检测低角度的背散射电子，能清楚地观察通道衬度。利用LED的照明效果能够获得含有形貌信息的、富有立体感的图像。

新一代场发射扫描电镜JSM-7800F配备了新开发的超级混合式物镜(SHL)，在保持极高的可操作性的同时，实现了低加速电压下的高分辨率，电子源采用浸没式（in-lens）肖特基场发射电子枪，因而能以大束流电流进行稳定的分析。

通过超级混合式物镜(SHL)进行高分辨率观察

JSM-7800F的物镜采用的是静电场和静磁场叠加的超级混合式物镜(SHL)，由于减少了色差及球差，极大地提高了低加速电压下的分辨率。此外，SHL不会对样品形成磁场影响，因此观察磁性材料的样品和进行EBSD测试可以不受制约。

低加速电压下的能量选择

能量过滤器位于高位检测器 (UED)的正下方，可以选择能量。即使在低加速电压下，也能够精确地选择二次电子和背散射电子，因而可以通过低加速电压下的背散射电子像观察样品的浅表面。

通过Gentle Beam （即柔和光束GB模式）观察样品的浅表面

给样品加以偏压(GB)，对入射电子有减速、对释放出的电子有加速作用。即使入射电子束到达样品时的能量很低，也可以获得高分辨率、高信噪比的图像。如果利用能施加更高偏压的GB模式，用几十电子伏能量的入射电子束，就可以进行更高分辨率的观察。

通过多个检测器获取样品的所有信息

JSM-7800F配有四种检测器：高位检测器(UED) 、高位二次电子检测器(USD)、背散射电子检测器(BED)和低位检测器(LED)。UED过滤器的电压不同，二次电子和背散射电子的数量会改变，因此可以选择电子的能量，USD检测被过滤器弹回的低能量电子，BED通过检测低角度的背散射电子，能清楚地观察通道衬度。利用LED的照明效果能够获得含有形貌信息的、富有立体感的图像。

分辨率:0.8nm (15kV)1.2nm (1kV)
 放大倍数:25 to 1,000,000x
 加速电压:0.01 to 30kV
 束流强度:200 nA（15kV)
 电子枪:浸没式热场发射电子枪
 物镜设计:超级混合式物镜
 样品台:5轴马达驱动

磁性非磁性样品形貌分析，点扫描，线扫描，面扫描 

• 能谱仪（EDS)

• 波谱仪（WDS）

• 电子背散射衍射系统（EBSD)

• 
  

无机材料，干燥

应用实例

低加速电压下的观察

利用JSM-7800F的GB模式，到达样品的能量从10 eV开始就可以观察。下面将到达样品的能量设定为80 eV进行实例观察：一个碳原子厚度的石墨薄片的表面

Specimen: Graphene

样品: 石墨烯　到达能量80eV

能量选择

UED和USD能同时获取背散射电子像(左图)和二次电子像(右图)，因此可以精确地解释图像。二次电子像主要反映形貌信息，金颗粒和TiO2的衬度没有明显不同，而背散射电子像中原子序数高的金颗粒则显得明亮。

背散射电子像 BE image

二次电子像 SE image

样品: 金负载型TiO2催化剂(2kV)g

利用GBSH观察

利用GBSH对样品施加高偏压，像差将会减小，图像的高分辨率会更高。能清楚地观察到介孔二氧化硅里中的微孔(下图)。

样品：介孔二氧化硅　到达样品的能量: 1keV

观察磁性材料样品

SHL物镜能抑制磁场的泄漏，因此即便是磁性材料的样品，也可以用极低的入射电子能量很容易地进行高分辨率观察 。

样品: 磁铁矿纳米颗粒　到达样品的能量: 1keV

磁性样品的EBSD测试

SHL没有磁场泄漏的影响，也很适合于EBSD。象下图所示那样，通过反极图能准确地确定晶体的取向。

分析点数: 118585

尺寸: Xzei大: 80.00微米, Y zei大: 79.89微米,步长: 0.25微米, 相: Nd2Fe14B 

从样品中获得的EBSD花样实例( 在任意点上获取)

 ND                    TD                    RD