登录成功

首页>仪器列表>聚焦离子束(FIB)TEM制样,FIB加工(现场实验,委托实验均可)

聚焦离子束(FIB)TEM制样,FIB加工(现场实验,委托实验均可)

本服务提供

  • 发票
  • 报价单
  • 电子合同

聚焦离子束(FIB)TEM制样,FIB加工(现场实验,委托实验均可)

  • 品 牌

    德国 Zeiss

    型 号

    Crossbeam 540

  • 模 式

    • 选 项

      • 价 格

        4000

查看商家电话
×
  • 联系人:易科学客服
  • 联系电话:400-086-3999 转 801
  • *联系我时请说明是在易科学看到的,谢谢!

  • 详细介绍
仪器简介

Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。

仪器参数

1.电子光学

加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。

2.聚焦离子束镜筒

离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x。

检测项目

横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工

样品要求
仪器简介

Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。

仪器参数

1.电子光学

加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。

2.聚焦离子束镜筒

离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x。

测试项目

横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工

样品要求

与老师沟通

结果实例
易科学优势

全部评价()

好评度:%

软件/教程/资料
温馨提示:相关资源收集整理来自互联网,仅用于学习交流用途,著作权归原作者所有,如有侵权请联系平台撤销

下单须知

聚焦离子束(FIB)TEM制样,FIB加工(现场实验,委托实验均可)

我已知晓,开始下单 返 回

软件/教程/资料-下载

温馨提示:相关资源收集整理来自互联网,仅用于学习交流用途,著作权归原作者所有,如有侵权请联系平台撤销。