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聚焦离子束(FIB)TEM制样,FIB加工(现场实验,委托实验均可)
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品 牌
德国 Zeiss
型 号Crossbeam 540
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模 式
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选 项
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价 格
4000
- 联系人:易科学客服
- 联系电话:400-086-3999 转 801
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- 详细介绍
仪器简介
Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。
仪器参数
1.电子光学
加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。
2.聚焦离子束镜筒
离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x。
检测项目
横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工
样品要求
仪器简介
Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。
仪器参数
1.电子光学
加速电压:0.02-30kV;放大倍数:12x-2000000x;探针电流:10pA-40nA;加速电压:0.02-30kV;分辨率:3nm@20kV;工作范围:1-50mm。
2.聚焦离子束镜筒
离子源:Ga+;FIB分辨率:3nm@30kV;放大倍数:300x-500000x。
测试项目
横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工
样品要求
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